이산 잠재 공간에서의 확산
이미지를 VQ-VAE의 잠재 표현으로 바꾼 뒤 조건부 DDPM 변형으로 그 공간을 모델링한다. 연속 픽셀에서 직접 생성하는 방식이나 잠재 토큰의 일방향 자기회귀 생성과 구분된다.
마스크와 대체의 결합
잠재 상태를 가리고 바꾸는 교란 전략을 사용한다. 순서대로 예측하면서 생기는 오류 누적과 한 방향의 의존 관계에 따른 문제에 대응하려는 구성이다.
속도와 품질의 비교
재매개변수화를 통해 생성 계산의 효율을 높이는 방법도 제시했다. 원 연구는 비슷한 매개변수 수의 자기회귀 모형과 비교했으며, 속도 차이는 해당 모형과 생성 설정에 따른 결과다.